Optical Associates 曝光系統儀器2000AF

OAI 2000型曝光系統可以配置為邊緣珠曝光系統（2000SM）或泛光曝光系統（2000 AF）；這兩種配置都基于OAI經過時間考驗的成熟平臺。

2000型曝光系統的兩個版本都包括紫外線光源、強度控制電源和機器人基板處理子系統。紫外光源提供可調節強度的光束，發散半角<2.0%。電源的功率范圍為200W至2000W。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監測。機器人基板處理系統由微處理器控制，可以編程以適應各種基板尺寸。蔭罩功能使用戶能夠在非常靠近蔭罩的情況下對基板的頂部進行圖案化。在25μ的分離度下，這些系統能夠達到6μ的分辨率。

在SM配置中，邊緣焊道曝光系統提供了一種使用標準蔭罩技術去除邊緣焊道的經濟高效的方法。掩模和基板轉換可以快速輕松地完成，增加了這種大批量生產工具的多功能性和產量。

在AF配置中，2000型泛光曝光系統用于增強和/或提升生產和研發環境中的光刻工藝。應用包括光致抗蝕劑穩定和改性、圖像反轉和PCM工藝。

2012AF型洪水暴露系統為自動洪水暴露提供了一種經濟高效的方法。

2012SM型自動邊緣焊道曝光系統提供了一種使用標準蔭罩技術去除邊緣焊道的經濟高效的方法。

這兩種型號都允許快速有效地更換掩模和基板，增加了這種生產工具的多功能性和高產量。此外，它們的設計可容納8英寸至300毫米的晶圓，該工具具有自動裝載FOUP的功能。

Optical Associates 曝光系統儀器2000AF